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                              半導體生產部件

                                刻蝕機是晶圓生產過程中極為重要的一個環節,刻蝕機的腔室(chamber)在刻蝕過程中受等離子體的侵蝕而失效,需要定期進行重新噴涂。聯合涂層技術公司與國內知名研究院共同研發的刻蝕機腔室的噴涂技術,已經成功通過了有關部門的鑒定,效果完全達到了用戶以往在日本噴涂所達到的全部技術指標。

                                     此外,熱噴涂在靜電吸盤(靜電卡盤)上也有重要的應用。


                                                                                                         

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